碳化矽,功率半導體行業發展的新機遇
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- 來源:
- 發布時間:2020-09-18
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【概要描述】碳化矽材料是功率半導體行業主要進步發展方向,用于制作功率器(qì)件(jiàn),可顯著提高(gāo)電能(néng)利用率。可預見的未來内,新能(néng)源汽車是碳化矽功率器(qì)件(jiàn)的主要應用場景。特斯拉作爲技(jì)術先驅,已率先在Model 3中集成全碳化矽模塊,其他一(yī)線車企亦皆計劃擴大碳化矽的應用。随著(zhe)碳化矽器(qì)件(jiàn)制造成本的日漸降低(dī)、工(gōng)藝技(jì)術的逐步成熟,碳化矽功率器(qì)件(jiàn)行業未來可期。
碳化矽,功率半導體行業發展的新機遇
【概要描述】碳化矽材料是功率半導體行業主要進步發展方向,用于制作功率器(qì)件(jiàn),可顯著提高(gāo)電能(néng)利用率。可預見的未來内,新能(néng)源汽車是碳化矽功率器(qì)件(jiàn)的主要應用場景。特斯拉作爲技(jì)術先驅,已率先在Model 3中集成全碳化矽模塊,其他一(yī)線車企亦皆計劃擴大碳化矽的應用。随著(zhe)碳化矽器(qì)件(jiàn)制造成本的日漸降低(dī)、工(gōng)藝技(jì)術的逐步成熟,碳化矽功率器(qì)件(jiàn)行業未來可期。
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行業介紹及市(shì)場現狀:碳化矽半導體的技(jì)術優勢突出,目前滲透率尚低(dī)。
功率半導體(又(yòu)稱電力電子器(qì)件(jiàn))用于電能(néng)轉換、控制電流控制,是電力電子系統的關鍵部件(jiàn),應用于電源、電機控制、可再生(shēng)能(néng)源、電力傳輸、動力牽引等輸變電和用電場景。
2019年(nián),全球功率器(qì)件(jiàn)市(shì)場規模約爲400億美元,過去5年(nián)平均複合增長率5.1%。其中,中國是最大的市(shì)場,占比近40%。
功率器(qì)件(jiàn)使用的半導體材料分爲三代:
第一(yī)代半導體材料爲矽(Si)、鍺(Ge)等單質材料。由于工(gōng)藝成熟及生(shēng)産成本低(dī),矽占據95%以上(shàng)的半導體器(qì)件(jiàn),是當今半導體材料的主體;
第二代半導體材料爲砷化镓(GaAs)等化合物(wù)材料。砷化镓半導體的電子遷移率高(gāo)、禁帶寬度比矽大,具備高(gāo)耐壓、高(gāo)頻率等優勢,但也有機械強度弱、高(gāo)溫下(xià)易分解、生(shēng)長速度慢(màn)、價格昂貴等劣勢,目前主要應用于LED等光(guāng)電子領域;
第三代半導體材料爲碳化矽(SiC)、氮化镓(GaN)等寬禁帶材料。
提高(gāo)能(néng)源利用效率(減少能(néng)量消耗和損耗)是功率半導體技(jì)術進步的主要方向。理想目标是,功率半導體在導通(tōng)狀态下(xià)沒有任何功率消耗,在關斷狀态下(xià)也沒有漏電流。現今,根據IEA的報告,世界電能(néng)損耗占總電能(néng)量的20%,無論從經濟效益還是環境保護的角度來看(kàn),都是極大的浪費。然而,以傳統矽材料制作的功率半導體器(qì)件(jiàn),電能(néng)變換效率已達理論極限。
以碳化矽、氮化镓爲代表的第三代半導體材料應用而生(shēng),已成爲功率半導體下(xià)一(yī)代技(jì)術演進方向。根據中國第三代半導體産業技(jì)術創新戰略聯盟,第三代半導體材料的性能(néng)優勢包括:高(gāo)電子漂移速度,可減少電能(néng)轉換功耗,提高(gāo)能(néng)源利用效率;禁帶寬度高(gāo),臨界擊穿電壓大,減少高(gāo)壓運行條件(jiàn)系統所需器(qì)件(jiàn)數量,促進系統小(xiǎo)型化、輕量化;高(gāo)熱導率,減少所需冷卻系統。
與氮化镓相(xiàng)比,碳化矽更适合在1,000V以上(shàng)的電力系統中應用,包括電動汽車、充電樁、新能(néng)源發電裝置、高(gāo)鐵動力牽引等中高(gāo)壓場景。氮化镓器(qì)件(jiàn)使用矽材料襯底的技(jì)術成熟後,相(xiàng)對使用同質襯底的碳化矽器(qì)件(jiàn),更具成本優勢。未來在中低(dī)壓場景,碳化矽與氮化镓材料制作的器(qì)件(jiàn)會有所競争。
目前,碳化矽器(qì)件(jiàn)主要用于電源供應和光(guāng)伏逆變器(qì),以及有限的電動汽車行業應用。主要潛在應用市(shì)場尚未打開。
2017-2019年(nián)間,全球碳化矽功率器(qì)件(jiàn)市(shì)場平均複合增長率39.7%,2019年(nián)市(shì)場規模爲5.07億美元,市(shì)場滲透率仍僅1.27%,尖角初露。
02
未來增長潛力:新能(néng)源汽車應用需求的攀升将推動碳化矽器(qì)件(jiàn)市(shì)場增長
各方渠道的公開信息都對碳化矽器(qì)件(jiàn)市(shì)場增長較爲樂觀。據估計,2025年(nián),全球碳化矽器(qì)件(jiàn)市(shì)場将超過30億美元,未來5年(nián)平均複合增長率高(gāo)達34.5%,此後繼續保持增長。
從增長來源/下(xià)遊需求端來看(kàn),可預見的未來内,新能(néng)源汽車(包括配套充電樁)将是碳化矽器(qì)件(jiàn)最大的應用場景,占總需求至少50%,增長速度遠超其他市(shì)場.
細分來看(kàn),目前,碳化矽器(qì)件(jiàn)在電動汽車上(shàng)主要用于OBC車載充電器(qì)和DC-DC轉換器(qì),有助于提高(gāo)汽車充電速度。2018年(nián)底,全球已有超過20家汽車廠商在OBC中使用碳化矽器(qì)件(jiàn)。然而,其市(shì)場價值空間較爲有限。
在電動汽車的驅動電機/逆變器(qì)(即其動力系統)上(shàng)應用碳化矽器(qì)件(jiàn),可顯著提升行駛裏程,潛在應用規模遠大于其他應用。将碳化矽器(qì)件(jiàn)用于驅動電機,既可降低(dī)電能(néng)損耗、提高(gāo)電力可控性,也可使設備體積更小(xiǎo)(減少約50%)、重量更輕,從而使汽車行駛裏程增加5~10%,或相(xiàng)應降低(dī)5%~10%的電池成本(約合每輛車200-600美元)。再者,使用碳化矽器(qì)件(jiàn)還可縮減制冷系統成本、延長動力電池使用壽命,可謂有利無害。粗略估計,每輛電動車驅動電機上(shàng)使用的碳化矽器(qì)件(jiàn)潛在價值金額或超現有應用價值的10倍以上(shàng)。
驅動電機的碳化矽器(qì)件(jiàn)應用趨勢已明确。目前,多(duō)數車企都打算(suàn)在未來幾年(nián)在主逆變器(qì)中使用碳化矽器(qì)件(jiàn)。出于成本因素,碳化矽器(qì)件(jiàn)首先配置于高(gāo)端電動車,特斯拉是碳化矽器(qì)件(jiàn)應用先驅,其Model3驅動電機搭載了24個650V/100A碳化矽MOSFET模塊。比亞迪在2020年(nián)新推出的漢(高(gāo)性能(néng)版)使用碳化矽MOSFET電機控制模塊。國外零部件(jiàn)供應商博世、采埃孚、德爾福亦皆推出了碳化矽電驅動系統研發計劃。此外,電力系統電壓的提升意味著(zhe)充電速度加快,以保時捷Taycan爲始,随著(zhe)高(gāo)端電動汽車電池包電壓平台從400v升級到(dào)800v,碳化矽模塊的需求将從650v轉移至1200v。
此外,碳化矽器(qì)件(jiàn)在充電樁市(shì)場的應用亦将快速增長。新能(néng)源汽車的普及将帶動充電樁建設需求,目前國内外缺口很大。由于其性能(néng)優勢,碳化矽器(qì)件(jiàn)在大功率直流(快充)充電樁的應用較多(duō)。
新能(néng)源汽車之外,針對軌道交通(tōng)、特高(gāo)壓電網等特定需求的高(gāo)耐壓器(qì)件(jiàn)目前還在開發階段,預計在2025年(nián)以後存在商用可能(néng)。
不過,由于碳化矽的工(gōng)藝比矽更複雜,附加值更高(gāo),下(xià)遊客戶主要将其用于高(gāo)效益比的應用中,預計不會取代矽在低(dī)端領域的應用。
03
技(jì)術發展趨勢:行業正在破除高(gāo)成本、低(dī)技(jì)術成熟度兩大發展屏障
如上(shàng)所述,碳化矽器(qì)件(jiàn)性能(néng)優勢突出、應用場景明确、又(yòu)有産業鏈上(shàng)下(xià)遊龍頭企業積極投入,可目前市(shì)場滲透率仍低(dī)。究其原因,即爲受制于高(gāo)制造成本、低(dī)技(jì)術成熟度兩大屏障。破此二障,是技(jì)術發展方向的核心。碳化矽器(qì)件(jiàn)制造的四個環節(襯底制作,外延制作、芯片制程、封裝測試)各有發力。
1)碳化矽器(qì)件(jiàn)制造成本高(gāo)昂。目前碳化矽二極管、MOSFET的成本大概是同類矽産品的2-3倍、5-10倍,而下(xià)遊客戶認爲大規模應用碳化矽器(qì)件(jiàn)的普遍價格區間應是同類矽器(qì)件(jiàn)1.5倍左右。成本高(gāo)企的主要因素是原材料價格高(gāo),尤其是占标準碳化矽器(qì)件(jiàn)成本50%的襯底晶圓。
碳化矽原材料的特性決定了高(gāo)于矽晶圓的制備難度和成本。制備溫度方面,碳化矽襯底需要在2500度高(gāo)溫設備下(xià)進行生(shēng)産,而矽晶隻需1500度;生(shēng)産周期方面,碳化矽晶圓約需要7至10天,而矽晶棒隻需要2天半;商業化晶圓尺寸方面,目前碳化矽晶圓主要是4英寸與6英寸,而用于功率器(qì)件(jiàn)的矽晶圓以8英寸爲主,這意味著(zhe)碳化矽單晶片所産芯片數量較少、碳化矽芯片制造成本較高(gāo)。
技(jì)術演進方向:襯底方面,國外龍頭企業預計将在2022年(nián)左右開始批量生(shēng)産8寸晶片;外延及器(qì)件(jiàn)方面,将繼續提高(gāo)産能(néng)及制造良品率。
2)碳化矽産業發展時間不長,有待更多(duō)應用驗證。碳化矽不像矽産業,已在幾十年(nián)的研究中積累了一(yī)套很完整的數據。碳化矽的很多(duō)性能(néng)結論都是由矽的性質推導而來,不少特性數據有待進一(yī)步實證。
此外,碳化矽功率器(qì)件(jiàn)的産品組合尚未完善。從整個功率半導體市(shì)場來看(kàn),功率器(qì)件(jiàn)種類多(duō)樣,主要包括二極管、MOSFET、IGBT等,分别适用于不同的領域。但是目前,碳化矽器(qì)件(jiàn)市(shì)場還以二極管爲主,MOSFET尚未大規模推廣,IGBT仍在研發。碳化矽二極管主要用于替代矽二極管,結構複雜度較低(dī),現已大規模商用化,2019年(nián)碳化矽二極管的碳化矽器(qì)件(jiàn)市(shì)場占比達到(dào)85%,可謂是目前最主要的碳化矽器(qì)件(jiàn)。碳化矽MOSFET可替代矽基IGBT,大規模應用仍受限于産品性能(néng)穩定性及器(qì)件(jiàn)成熟性。碳化矽IGBT尚在研發,預計将在5-10年(nián)後才能(néng)看(kàn)到(dào)相(xiàng)關器(qì)件(jiàn)原型。
技(jì)術演進方向:器(qì)件(jiàn)方面,正在發展3.3kv以上(shàng)的高(gāo)耐壓器(qì)件(jiàn)、并引入溝槽式設計以提高(gāo)器(qì)件(jiàn)性能(néng)和可靠性;封裝方面,将優化封裝工(gōng)藝以發揮碳化矽耐高(gāo)溫優勢。
04
促進國内産業發展的建議 :
加強頂層設計,制定規劃、集中力量、發展技(jì)術、夯實基礎
· 制定戰略規劃、規劃技(jì)術發展路(lù)線、探索可彙聚各方資源的路(lù)徑方法
· 調動政府和資本,促進産業集群,集中并優化創新資源,集中力量以攻破設備、材料和器(qì)件(jiàn)上(shàng)的技(jì)術短闆
· 加強基礎研究、鼓勵原始創新,爲産業提供人才、技(jì)術、與創意供給
完善産業鏈公共研發、服務、及生(shēng)産應用等基礎平台
· 建設開放(fàng)的國家創新技(jì)術中心、國際化的公共研發和服務平台,攻堅核心技(jì)術、豐富創新資源
· 建設測試驗證和應用示範平台,完善産品測試流程、協助企業創新應用、加強以應用爲核心的體系化能(néng)力
完善産業生(shēng)态環境,抓住人才、技(jì)術、應用、國際合作等關鍵點
· 完善人才體系,培養創業創新、工(gōng)程技(jì)術等方面的領軍人才
· 建設開放(fàng)、有序的技(jì)術标準體系,加強專利運營,積極參與國際技(jì)術标準制定
· 推動國際合作,增加與國外産學研界的科研交流,并推動設立海外技(jì)術研發和創新中心
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